Истражувачи од Универзитетот Калифорнија во САД дизајнираа нова маска за лице чија база е материјал кој може да уништи до 99,9% од бактериите, вирусите и другите патогени во рок од еден час од изложувањето на дневна светлина. Истражувачите нагласуваат дека оваа маска од посебен памук може да се пере 10 пати и дека непрекинато може да се исложува на сончева светлина најмалку една недела. Тоа нема да ја намали нејзината антимикробна активност.
Студијата е објавена во списанието ACS Applied Materials and Interfaces. Истражувачите сакале да дизајнираат нов памучен материјал кој би ослободувал реактивни видови на кислород кога е изложена на дневна светлина и да може да ги убива микробите кои ќе се најдат на површината на материјалот. Битно било истовремено да може да се пере за да може повторно да се користи и да биде безбеден.
Така го прицврстиле антимикробниот материјал за позитивно наелектризирани низи на 2-диетил аминоетил хлорид (DEAE) на обичен памук. Тие модифицираниот памук го потопиле во раствор од негативно наелектризирани фотосензибилизатори, односно соединенија кои ослободуваат кислород кога се изложени на светлина, а кој со моќни електростатички реакции е прикачен на низата на DEAE.
Така истражувачите забележале дека луѓето можат да ја дезинфицираат својата платнена маска во текот на ручекот надвор на сонце или ако поминуваат подолг временски период на светлина во канцеларија или во станот.
Тимот истражувачи забележал дека фотосензибилизаторот уништува 99,9999% од бактериите на материјалот во рок од еден час од изложувањето на дневна светлинаи дека деактивира 99,9999% од вирусите за кои се смета дека се поотпорни отколку корона вирусот во рок од половина час .
(Business Line)
(фото: Pxfuel)
